簡要描述:高低溫循環(huán)一體機CHGD-10200-30低溫水浴鍋,高低溫循環(huán)一體機采用無氟制冷技術(shù),經(jīng)過多年試驗研發(fā)而成,具有加熱和制冷功能,是理想的高精度恒溫源。高低溫循環(huán)一體機適用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門、高等院校、企業(yè)質(zhì)檢及生產(chǎn)部門,為用戶工作時提供一個冷熱受控,溫度均勻恒定的液體環(huán)境。
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品牌 | 其他品牌 | 溫控功能 | 制冷/加熱型 |
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價格區(qū)間 | 面議 | 循環(huán)功能 | 內(nèi)外循環(huán) |
儀器種類 | 恒溫浴槽 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥,綜合 |
高低溫循環(huán)一體機CHGD-10200-30低溫水浴鍋
高低溫循環(huán)一體機采用無氟制冷技術(shù),經(jīng)過多年試驗研發(fā)而成,具有加熱和制冷功能,是理想的高精度恒溫源。高低溫循環(huán)一體機適用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門、高等院校、企業(yè)質(zhì)檢及生產(chǎn)部門,為用戶工作時提供一個冷熱受控,溫度均勻恒定的液體環(huán)境??捎糜谥苯蛹訜峄蛑评浠蜃鳛檩o助加熱或制冷的溫度來源,如對反應(yīng)釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的控溫.
技術(shù)參數(shù):
型號 | 溫度范圍(℃) | 溫度波動度(℃) | 工作槽容積(mm3) | 工作槽開口(mm2) | 槽深度(mm) | 循環(huán)泵流量(L/min) | 排水 |
CHGD-05200-6 | -5~200 | ±0.05 | 250×200×150 | 180×140 | 150 | 15 | 有 |
CHGD-05200-10 | -5~200 | ±0.05 | 250×200×200 | 180×140 | 150 | 15 | 有 |
CHGD-05200-15 | -5~200 | ±0.05 | 300×250×200 | 235×160 | 200 | 15 | 有 |
CHGD-05200-20 | -5~200 | ±0.05 | 280×200×280 | 235×160 | 280 | 15 | 有 |
CHGD-05200-30 | -5~200 | ±0.05 | 400×325×230 | 310×280 | 230 | 15 | 有 |
CHGD-10200-6 | -10~200 | ±0.05 | 250×200×150 | 180×140 | 150 | 15 | 有 |
CHGD-10200-10 | -10~200 | ±0.05 | 250×200×200 | 180×140 | 200 | 15 | 有 |
CHGD-10200-15 | -10~200 | ±0.05 | 280×250×220 | 235×160 | 220 | 15 | 有 |
CHGD-10200-20 | -10~200 | ±0.05 | 280×200×280 | 235×160 | 280 | 15 | 有 |
CHGD-10200-30 | -10~200 | ±0.05 | 400×325×230 | 310×280 | 230 | 15 | 有 |
高低溫循環(huán)一體機CHGD-10200-30低溫水浴鍋
低溫恒溫槽精密恒溫控制系統(tǒng),整個量程范圍的溫度精確可控,噪音低,制冷效率高。其它制冷關(guān)鍵配件也采用全進口配件;制冷系統(tǒng)具備高壓保 護器,確保制冷系統(tǒng)安全。低溫恒溫槽裝置采用全封閉磁力泵循環(huán)攪拌,溫場均勻,*泄漏,傳感器開路、短路保護、雙重溫度保護等功能,確保儀器絕對安全運行。
低溫恒溫槽可在機內(nèi)水槽進行恒溫實驗,或通過軟管與其他設(shè)備相連,作為恒溫源配套使用,為用戶工作時提供一個熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,對試驗樣品或生產(chǎn)的產(chǎn)品進行恒定溫度試驗或測試,可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源。低溫恒溫槽裝置內(nèi)置新一代溫度控制程序,確保設(shè)備運行穩(wěn)定,全封閉壓縮機組制冷,制冷系統(tǒng)具有過熱、過電流多重保護裝置。
低溫恒溫槽可以把槽內(nèi)被恒溫液體外引,建立第二恒溫場,槽內(nèi)冷液可外引,冷卻機外實驗容器,也可在槽內(nèi)直接進行低溫、恒溫實驗,采用模擬數(shù)字PID自動控制系統(tǒng),溫度數(shù)字顯示,內(nèi)膽、臺面均為全不銹鋼,清潔衛(wèi)生,美觀耐腐蝕。低溫恒溫槽裝置為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍的溫度精確控制,應(yīng)用于石油化工、制藥等化學反應(yīng)工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,低溫測量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用。
操作使用說明:
1)不管是風冷式還是水冷式,溫控裝置都需位于一個擁有足夠新鮮空氣的操作環(huán)境:周圍大于30cm的空間。
2) 選擇導熱介質(zhì)的時候,需注意它的溫度上限和下限,燃點,粘度,冰點等是否符合要求,以及是否適合儀器內(nèi)部管道的使用;
3) 選擇輸導熱介質(zhì)管時,長度應(yīng)盡可能短,直徑盡可能大,若直徑太小,有可能造成限流;
4) 請勿使用水作為導熱介質(zhì);
5) 不合適的導熱介質(zhì)將對儀器設(shè)備產(chǎn)生負面影響,并且有可能對裝置造成損壞。因此只能使用廠家規(guī)定的導熱介質(zhì)并且在規(guī)定的壓力范圍內(nèi)使用。
6) 灌裝后必須重新設(shè)置設(shè)備調(diào)節(jié)參數(shù),這是正確操作和使用儀器的要求;
7) 請勿把制冷加熱一體機導熱介質(zhì)管路打結(jié);
8) 定期檢查輸導熱介質(zhì)管,以免出現(xiàn)材料的勞損(如:裂變)。
9) 警告:為了避免損壞儀器的管路,請在使用礦物質(zhì)含量高的水時,要定期使用水處理化學品進行清理管路污垢。(水冷儀器設(shè)備)
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